Osvitovka na UV

[Pavel Hudecek]

Docela by mě zajímalo, proč by se odraz měl při různé intenzitě projevovat 
různě.

Jediná mě známá věc, která způsobuje nelinearitu expozice je Schwarzchildův 
jev u ČB filmu, což je ovšem specifická vlastnost krystalického AgNO3, kde 
krystaly hrají klíčovou roli. Je otázka, zda je něco podobného u 
fotorezistu, ale určitě to nebude souviset s odrazem.

Pravděpodobnější je, že obvyklé podmínky vedoucí ke krátké expozici, vedou 
zároveň k malému podílu rozptýlené složky a naopak.

Rozhodně je to zajímavý námět na experiment: Někdo s hotovou LED osvitovkou 
by mohl naexponovat několik expozic s různou délkou a intenzitou bez změny 
vzdálenosti a dalších vlastností optické soustavy a potom nafotit výsledek.

PH

From: <cipisek.cipr na seznam.cz>
To je sice logicka uvaha, ale v realu moc nefunguje, a to z duvodu opticke
hustoty resistu.
Resistu musite dodat cca 50mJ/cm2 pricemz podle toho na jake vlnove delce
svitite se cast pohlti a cast projde, to co projde se z casti odrazi od medi
pod resistem a prochazi znovu tam kde nechcete.
Cim svitite dele tim vice projde a tim padem se vam vice osvecuje tam kde
nechcete.
Opticka hustota resistu na 405nm bude jiz dost mizerna a skoro polovina
zareni bude prochazet, tedy osvecpvat jinde nez je zadouci.

Od: Jirka <zaloha na volny.cz>
Nesmysl. Ta věc nemá binární charakter (jako nakonec máloco).

Intenzita ozáření resistu se jistě zmenší (dokonce se čtvercem
vzdálenosti), na druhou stranu mi nic nebrání přiměřeně prodloužit
expoziční čas, abych zachoval množství dodané energie.

Že to lze (byť s jednou 5W UV LED) je vidět třeba na
http://yveslebrac.blogspot.cz/2010/11/single-led-uv-pcb-exposure-box.html

100x 5mm LED může mít srovnatelný, nebo dokonce spíš větší výkon, takže
nebude vadit mírně větší vzdálenost kvůli tomu, že vyzařovací plocha se
nebude tolik podobat bodu.