35 rokov - porovnanie procesorov

Jan Waclawek konfera@efton.sk
Úterý Srpen 5 00:23:31 CEST 2008


Spravne prevedena epitaxia dokaze "zacelit" niektore (nie vsetky) druhy dislokacii, aj ked dnes je uz aj spracovanie toho substratu podstatne lepsie nez bolo kedysi.

Podstatnejsia vlastnost epitaxnej vrstvy je vsak jeho cistota - pri pileni, bruseni a lesteni sa nielen indukuju dislokacie, ale aj deponuje male mnozstvo rozneho materialu ktory potom funguje ako cistota.

Dalsia dolezita vlastnost je, ze sa da epitaxna vrstva vytvorit v takmer akejkolvek vodivosti (hustote dotacie), co sa pri bulku neda z roznych dovodov dosiahnut. 

Pokial viem, dnes sa vlastne na neepitaxnych substratoch robia len nejake zastarale obvody, a tu epitaxiu robi vlastne priamo uz dodavatel waferov.

No a posledny velmi dolezity fakt najma u tych gigahertzovych procesorov je, ze u nich sa vlastne nedeponuje kremik, ale sa vytvara heterostruktura SiGe-Si, ktora je vlastne pre nosice naboja (elektrony) jednorozmernou kvantovou jamou, takze v skutocnosti tie tranzistory nie su prachsproste kremikove MOSFETy, ale HEMTy nie nepodobne tym mikrovlnnym tranzistorom ktore umoznili "satelitovu revoluciu"...

wek



----- Original Message ---------------
>Je to u¾ hodnì dlouho co jsem skonèil ¹kolu - dìlal jsem slaboproudou 
>elektrotechnologii a dost jsme tam probírali výrobu IC. Pøed tìma 28 lety se 
>daøilo i nìkolik málo dislokací v monokrystalu, koukalo se na to rentgenem. 
>Ale nanést bezchybnou epitaxní vrstvu? To taky jde? V¾dycky jsem si myslel 
>¾e epitaxní vrstva nemù¾e být tak kvalitní jako základní materiál, který pøi 
>zónové rafinaci krystalizoval pìknì pomalu. No to jsou dneska vìci.




Další informace o konferenci Hw-list