35 rokov - porovnanie procesorov

Vláďa Anděl vaelektronik@vaelektronik.cz
Pondělí Srpen 4 23:21:33 CEST 2008


Je to už hodně dlouho co jsem skončil školu - dělal jsem slaboproudou 
elektrotechnologii a dost jsme tam probírali výrobu IC. Před těma 28 lety se 
dařilo i několik málo dislokací v monokrystalu, koukalo se na to rentgenem. 
Ale nanést bezchybnou epitaxní vrstvu? To taky jde? Vždycky jsem si myslel 
že epitaxní vrstva nemůže být tak kvalitní jako základní materiál, který při 
zónové rafinaci krystalizoval pěkně pomalu. No to jsou dneska věci.
Anděl

----- Original Message ----- 
From: "Jan Waclawek" <konfera@efton.sk>
To: <hw-list@list.hw.cz>
Sent: Monday, August 04, 2008 10:15 PM
Subject: 35 rokov - porovnanie procesorov


Na tomto obrazku (pozor, skoro 2MB):
http://download.intel.com/museum/research/arc_collect/history_docs/pix/4004wafer_and_corewafer.jpg

je na 12" waferi ("salame" kremika) moderneho Core2Duo polozeny wafer 
(tipujem 2" alebo 2.5") so 4004, t.j. prvym mikroprocesorom.

Rozdiel je nielen v absolutnej velkosti, co je uz samo osebe vyznamny 
technologicky pokrok (okrem potreby vyrobit takto velky monokrystal, narezat 
ho, vylestit, dnes aj vytvorit na nom tenku (epitaxnu) vrstvu uplne 
bezchybneho polovodica (a to nielen kremika), to znamena aj uplne presne 
naniest fotorezist, exponovat, homogenne implantovat ci difundovat primesi, 
naniest kovovu vrstvu, maskovat a leptat ju, naniest homogennu izolacnu 
vrstvu, tu tiez maskovat a leptat, toto opakovat tokokrat kolko vrstiev je, 
potom pasivovat, rozrezat, otestovat, nakontaktovat, zapuzdrit); ale aj v 
relativnej velkosti celeho wafera, jednotliveho detailu, a velkosti cipu (co 
okrem ineho hovori o hustote poruch a necistot).

Povsimnite si aj testovacie struktury na waferi 4004 (tie "inaksie" cipy - 
tam nie je procesor ale len jednoduche struktury ako vodic, rezistor, dioda, 
tranzistor, na ktorych sa skusa kvalita technologickeho procesu) - a ich 
absenciu na waferi toho pentia (uz sa nerobia testovacie struktury na kazdom 
waferi. lebo proces je dnes uz dostatocne rovnomerny od waferu k waferu, ale 
sa robia cele testovacie wafery (aby sa testovala prave homogenita procesu 
po celej ploche waferu).

V tom muzeu su aj ine zaujimave veci.

wek


_______________________________________________
HW-list mailing list  -  sponsored by www.HW.cz
Hw-list@list.hw.cz
http://list.hw.cz/mailman/listinfo/hw-list




Další informace o konferenci Hw-list