Vyvojka na DPS
Jirka
zaloha@volny.cz
Pátek Duben 22 12:37:44 CEST 2005
Horký Aleš napsal(a):
> Kdysi jsem ziskal zajimavou zkusenost. Vecer jsem strikl cuprak a
> zavrel ho do skrine na zaschnuti. Druhej den jsem se rozhodl ze
> si udelam hned dva stejny kusy a strikl jsem druhou desticku. Tu jsem
> susil "rychlym zpusobem" pri zvysene teplote dle navodu. Obe jsem
> nasvitil stejnou dobu pres stejnou predlohu a dal vyvolat. Deska
> susena "Rychle" se castecne odplavila i tam kde nemela a ta
> druha susena pres noc vysla krasne.
Ano. O rozdilu v citlivosti (a mozna i strmosti expozicni
charakteristiky - to nevim) v zavislosti na zpusobu suseni citlive
vrstvy jsem se zminoval uz pred casem.
--
Jirka
Další informace o konferenci Hw-list