Vyvojka na DPS

Jirka zaloha@volny.cz
Pátek Duben 22 12:37:44 CEST 2005


Horký Aleš napsal(a):

> Kdysi jsem ziskal zajimavou zkusenost. Vecer jsem strikl cuprak a 
> zavrel ho do skrine na zaschnuti. Druhej den jsem se rozhodl ze 
> si udelam hned dva  stejny kusy a strikl jsem druhou desticku. Tu jsem
> susil "rychlym zpusobem" pri zvysene teplote dle navodu. Obe jsem
> nasvitil stejnou dobu pres stejnou predlohu a dal vyvolat. Deska 
> susena "Rychle" se castecne odplavila  i tam kde nemela a ta 
> druha susena pres noc vysla krasne. 

Ano. O rozdilu v citlivosti (a mozna i strmosti expozicni 
charakteristiky - to nevim) v zavislosti na zpusobu suseni citlive 
vrstvy jsem se zminoval uz pred casem.

-- 
Jirka




Další informace o konferenci Hw-list