Vyvojka na DPS

Horký Aleš HorkyA@penam.cz
Pátek Duben 22 12:29:35 CEST 2005


Kdysi jsem ziskal zajimavou zkusenost. Vecer jsem strikl cuprak a 
zavrel ho do skrine na zaschnuti. Druhej den jsem se rozhodl ze 
si udelam hned dva  stejny kusy a strikl jsem druhou desticku. Tu jsem
susil "rychlym zpusobem" pri zvysene teplote dle navodu. Obe jsem
nasvitil stejnou dobu pres stejnou predlohu a dal vyvolat. Deska 
susena "Rychle" se castecne odplavila  i tam kde nemela a ta 
druha susena pres noc vysla krasne. 
Od te doby nastrikam vice desek predem a pak z nich odrezavam co potrebuji.

Horky Ales



-----Original Message-----
From: Ivan Kiss [mailto:Ivan.Kiss@Novohrad.sk] 
Sent: Friday, April 22, 2005 9:57 AM
To: hw-list
Subject: Vyvojka na DPS

Podla autora vyvojka pracuje pomalsie ako klasická a tým lahsie
ustrazim vysledok. Prave preto som ju skusil. Spolahlivo a za kratky
cas mi tato vyvojka odplavila vsetku emulziu.

Pouzivate takuto vyvojku niekto?

Koncentracia NaOH je v nej niekolkonasobne vyssia ako klasikckych 0.7%
Je tam vsak vodne sklo, neviem aku ma funkciu, mozno potom ta vyssia
koncentracia hydroxidu nie je na zavadu.

Este musim uviest, ze pouzivam Lachemacky pozitivny fotoroztok SCR-5 a
nie Positiv 20.





Další informace o konferenci Hw-list