Predloha pro negativni rezist

[OK1UGA]

Já zase během vyvolávání sleduji jak se po desce táhnou takové šmouhy z 
odplaveného rezistu. Jak pohybuji (houpu) při vyvolávání miskou zřetelně 
jsou vidět a pohybují se. Dokud se tyto šmouhy vyskytují zbývá ještě 
neodplavený fotorezist. Když úplně zmizí je vše co bylo osvíceno taky 
odplaveno a proces vyvolávání je u konce. Pokud byla expozice dostatečná 
už se nestane že by tam neodplavený fotorezist zůstal.

     Martin.


Dne 27.12.2011 22:40, Jirka napsal(a):
> Jo, na tohle používám následující trik:
>
> vezmu multimetr s pískadlem (analogovým s okamžitou reakcí, ne s MCU 
> bazmekem, co mu to trvá nejmíň stovky ms - tedy opět starý...) a desku 
> po vyvolání. Jeden pól připojím někde natrvalo na Cu fólii, druhým 
> jezdím po fólii v místech, kde si nejsem jistý těmi ev. zbytky 
> fotoresistu. Jsou krásně slyšet, protože samozřejmě zhoršují, nebo 
> zcela přerušují kontakt, takže pak se dá deska "dovyvolat"...
>
> Zejména u Pozitivu 20 je to užitečné,  protože závoj z něj je někdy 
> dost špatně vidět.
>
> ---
> Jirka
>
>> v těch místech
>> zůstal nepatrný (skoro průhledný) závoj fotorezistu. Když člověk neví co
>> hledat přehlédne to. Způsobené je to buď krátkou expozicí nebo
>> předčasným vyjmutím z vývojky případně kombinací obou vlivů. Když je
>> toho takto malý kousek lze to opravit odškrábnutím před leptáním.
> _______________________________________________
> HW-list mailing list  -  sponsored by www.HW.cz
> Hw-list na list.hw.cz
> http://list.hw.cz/mailman/listinfo/hw-list
>
>