Osvitovka na UV

[Pavel Kutina]

Fotochemie je svine. Jestlize se rezist bude chovat podobne, jako treba 
klasicky fotopapir (a nemam duvod verit opaku), pak jedna intenzivni 
expozice neodpovida dlouhe slabe. U fotografie se vyrazne lisi vysledny 
kontrast - a protoze u motivu na DPS nejak neocekavam, ze bych mel potrebu 
honit sirokou skalu sedych a mekke polotony, asi bych preferoval co nejtvrsi 
a nejkratsi expozici.

Priznam se, ze pro tenhle jev nemam vysvetleni (nehledal jsem ho, 
predpokladam, ze se najit da), kazdopadne tvrzeni "tvrdy osvit -> vysoky 
kontrast" je v praxi overene.

Pavel Kutina


----- Original Message ----- 
From: "Jirka" <zaloha na volny.cz>
To: <hw-list na list.hw.cz>
Sent: Saturday, January 26, 2013 12:23 PM
Subject: Re: Osvitovka na UV

Nesmysl. Ta věc nemá binární charakter (jako nakonec máloco).

Intenzita ozáření resistu se jistě zmenší (dokonce se čtvercem
vzdálenosti), na druhou stranu mi nic nebrání přiměřeně prodloužit
expoziční čas, abych zachoval množství dodané energie.

Že to lze (byť s jednou 5W UV LED) je vidět třeba na
http://yveslebrac.blogspot.cz/2010/11/single-led-uv-pcb-exposure-box.html

100x 5mm LED může mít srovnatelný, nebo dokonce spíš větší výkon, takže
nebude vadit mírně větší vzdálenost kvůli tomu, že vyzařovací plocha se
nebude tolik podobat bodu.

---
Jirka